실리콘 질화물 기질의 작동 원리

작동 원리실리콘 질화물 기질주로 고유 한 물리적 및 화학적 특성을 기반으로하며 다양한 첨단 기술 분야에서 중요한 역할을 수행 할 수 있습니다.

실리콘 질화물 (SI3N4)은 높은 열전도율, 높은 기계적 강도, 우수한 화학적 안정성 및 열 충격 저항을 갖는 무기 물질이다. 이러한 특성으로 인해 실리콘 질화물 기판은 전력 전자 장치, 고온 공학 부품, 야금 산업의 고급 내화 재료 및 화학 산업에 널리 사용됩니다.

전력 전자 장치에서, 실리콘 질화물 기질의 작동 원리는 주로 열 소산 및 기계적지지에 반영된다. 반도체 장치는 작동 중에 많은 열을 생성하고 실리콘 질화물 기판은 높은 열전도율이 우수한 우수한 열전도율을 가지기 때문에 장치에서 열을 효과적으로 수출하여 장치의 정상적인 작동을 보장 할 수 있습니다. 동시에, 실리콘 질화물 기질의 높은 기계적 강도는 또한 큰 기계적 스트레스를 견딜 수 있고 장치에 대한 안정적인지지를 제공 할 수있게한다.

또한, 실리콘 질화물 기질은 또한 우수한 화학적 안정성과 열 충격 저항을 가지며, 가혹한 작업 환경에서 안정적인 성능을 유지할 수 있습니다. 이러한 특성은 실리콘 질화물 기질이 고온, 고압 및 강한 부식과 같은 극한 조건에서 정상적으로 작동하여 적용 영역을 더욱 넓힐 수있게한다.

요약하면, 실리콘 질화물 기질의 작동 원리는 주로 높은 열전도율, 높은 기계적 강도, 우수한 화학적 안정성 및 열 충격 저항에 기초하여 다양한 하이테크 분야에서 대체 할 수없는 역할을합니다.